Новое оборудование на сайте направления микроэлектроники ЗАО Предприятие Остек – вертикальные печи для обработки SiC

Фото модели Activator 150 с сайта www.ostec-micro.ru

Компания Centrotherm thermal solutions имеет более чем 30-летний опыт в разработке и производстве оборудования для технологической обработки полупроводников и является активным участником рынка SiC более 7 лет. Компания тесно сотрудничает с Фраунгоферовским институтом интегрированных систем и электронных устройств Fraunhofer IISB в Ирланге.

Печи Centrotherm Activator 150 и centrotherm Oxidator 150 доступны в исполнении для применения в исследованиях и разработках (R&D) с партией до 5 одновременно обрабатываемых пластин или для производства – с партией до 50 одновременно обрабатываемых пластин. Оборудование обладает высокой технологичностью и приспособлено для загрузки 2'', 3'', 100 мм и 150 мм пластин. Это позволяет клиентам использовать пластины различных диаметров в пределах одного технологического процесса обработки, что способствует снижению стоимости технологического процесса.

С 7 по 11 сентября 2008 года в Барселоне на конференции ECSCRM компания Centrotherm thermal solutions представила самое современное решение на рынке SiC.

Она предлагает вертикальные печи для обработки SiC:

centrotherm Activator 150 – для SiC активации и отжига до температуры 1850°С

centrotherm Oxidator 150 – для SiC оксидирования 1400°С

О компании centrotherm thermal solutions GmbH + Co. KG

Более 30 лет компания centrotherm thermal solutions разрабатывает, производит и продаёт высокотехнологичное оборудование, а также компоненты для температурной обработки полупроводников и фотовольтаики. Диапазон продукции включает горизонтальные и вертикальные печи, конвейерные печи, печи для вакуумной пайки, а также инженерно-технологическую службу.

Информация с сайта www.ostec-micro.ru.