РОСНАНО и АФК «Система» подписали договор о создании производства микросхем с проектными нормами 90 нм

Генеральный директор РОСНАНО Анатолий Чубайс и Председатель Совета директоров АФК «Система» Владимир Евтушенков подписали инвестиционный договор по созданию серийного производства интегральных схем с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм. Подписание документа состоялось во время визита Председателя Правительства РФ Владимира Путина на предприятие «НИИМЭ и Микрон», расположенное в Зеленограде.

Подписание инвестиционного соглашения дает старт проекту, который призван вывести отечественную микроэлектронную промышленность на новый уровень развития. Проект будет реализован на производственной базе с использованием инфраструктуры завода «Микрон» (входит в состав ОАО «СИТРОНИКС», крупнейшим акционером которого является АФК «Система»). Технологическим партнером совместного проекта выступит лидер европейской полупроводниковой промышленности — компания STMicroelectronics. Развитие проекта позволит создать технологическую систему, включающую в себя дизайн-центры, научно-исследовательские организации, компании, занимающиеся материаловедением микроэлектроники.

Продукция, которая будет выпускаться на новом производстве, нацелена на такие развивающиеся массовые рынки, как цифровое телевидение, ГЛОНАСС/GPS навигация, системы автоматизации производства, автомобильная электроника и смарт-карты с высокой степенью защиты.

Инвестиции в проект осуществляются в форме взносов в уставный капитал создаваемого совместного предприятия, соучредителями которого на паритетных началах выступят РОСНАНО и ОАО «НИИМЭ и Микрон». Общий объем финансирования проекта составит 16,5 млрд рублей. В соответствии с соглашением, объем инвестиций РОСНАНО составит 6,5 млрд руб. «СИТРОНИКС» вложит в проект равную долю в виде высокотехнологичного оборудования основного исполнителя проекта — завода «Микрон». В долгосрочной перспективе проект предусматривает также привлечение заемного финансирования.

«Этот проект имеет стратегическое значение, - отметил Генеральный директор РОСНАНО Анатолий Чубайс. - Формирование отечественного наноэлектронного производства в России играет важную роль в обеспечении технологической безопасности страны и развитии всего высокотехнологичного сектора экономики».

«С каждым следующим поколением производственной технологии растет производительность и снижается энергопотребление чипа. Внедрение технологии 90 нм позволит нам выйти на новые рынки, сохранив при этом рыночные позиции по продукции с технологической нормой 180 нм», - отметил Генеральный директор ОАО «НИИМЭ и «Микрон» Геннадий Красников.

Информация с сайта sitronics.ru.