Компания Plasma Etch представляет бюджетную систему плазменной очистки

Фото с сайта www.globalsmt.net

Компания Plasma Etch, Inc. представляет настольную систему плазменной очистки с доступной стоимостью PE-50, предназначенную специально для учебных и исследовательских производств.

В системе PE-50 применяется прочная алюминиевая вакуумная камера 6" x 6" x 4" (152,4 х 152,4 х 101,6 мм) для работы с подложками размером до 5"x 5" (127 х 127 мм) с зазором 3" (76,2 мм). Система имеет блок питания 50 кГц 125 Вт с плавной регулировкой мощности. РЧ блок питания 13,56 МГц с автоматической регулировкой поставляется опционально. Система PE-50 также содержит 2 роторных измерителей расхода газа для обеспечения независимого управления подачей газов и подачи газовой смеси в вакуумную камеру, а также вакуумный насос с производительностью 7 cfm (~0,2 м³/мин) на масле Fomblin.

Система также снабжается управляющим ПЛК, обеспечивающим автоматическое выполнение процесса. Для ввода данных используется клавиатура. Для обеспечения надежности и повторяемости выполнения процесса одна полная последовательность обработки может отображаться на дисплее и сохраняться в памяти.

Возможные области применения системы включают медицинские устройства, солнечные элементы, печатные платы, соединители МЭМС, нанотехнологии, корпуса на базе подложки кристалла, а также другие процессы полупроводникового производства.

Сайт компании Plasma Etch: www.plasmaetch.com

Информация с сайта www.globalsmt.net