Компания SUSS MicroTec представляет новую систему экпонирования для устройств совмещения маски

Изображение с сайта www.suss.com

Компания SUSS MicroTec, один из ведущих поставщиков оборудования для трехмерных интегральных систем, МЭМС, сложного корпусирования и нанотехнологий, выпустила новую систему экспонирования MO Exposure Optics, предназначенную для всех поколений ручных и автоматических систем совмещения маски компании SUSS. Новая оптическая система основана на уникальных матрицах микролинз высокого оптического качества, обеспечивающих повышенную интенсивность, улучшенную равномерность воздействующего света, а также возможность создания области экспонирования заданной формы. Это позволяет пользователям устройств совмещения SUSS MicroTec оптимизировать окно процесса и повысить выход годных при контактной литографии и литографии с микрозазором. Находящаяся в стадии получения патента система MO Exposure Optics была специально разработана компанией SUSS MicroOptics, специализирующейся на высококачественных оптических решениях для экспонирования, формирования лазерного луча, измерений, медицинских и видеосистем.

Система MO Exposure Optics имеет набор настроек света, включая широко известные настройки устройств совмещения маски компании SUSS MicroTec (A-Optics, D-Optics, LGO (оптика с большим зазором) и HR), а также дополнительные настройки, такие как кольцевой свет, диполь, квадруполь, мультиполь и мальтийский крест. Пользователь может выбирать наиболее подходящие настройки экспонирования простой сменой пластин-фильтров. Для промышленных установок совмещения маски будет выпущено устройство автоматической смены пластин. Возможность выбора наилучших настроек экспонирования увеличивает глубину фокуса и окно процесса.

Систему MO Exposure Optics для всех ручных и автоматических установок совмещения можно заказать уже сейчас. Установки совмещения SUSS MicroTec могут быть оснащены системой на месте.

По информации с сайта www.suss.com